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구리의 전기화학적-기계적 평탄화 : 전해질에 있어서 표면층의 전압 제어 제거에 대한 화학 첨가제의 효과
Electrochemical–mechanical planarization of copper : Effects of chemical additives on voltage controlled removal of surface layers in electrolytes

등록 : 2023.10.14 ⋅ 32회 인용

출처 : Materials Chemistry and Physics, 94호 2005년, 영어 13 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.10.14
구리의 CMP(화학적 기계적 평탄화)는 이제 통합 구리 제조 시 재료 처리의 필수적인 부분이 되었다. 회로공정은 연마 단계에서 샘플에 상당한 하향힘을 적용해야 하므로 Cu 라인 아래에 기계적으로 약한 유전층을 포함하는 시스템에는 적합하지 않을 수 있다. 최근 CMP의 가능한 확장으로 전기화학적-기계적 평탄화(ECMP)가 ...
  • 단조 알루미늄과 고 실리카 함유 알루미늄을 기본으로 한 은 Ag 도금의 밀착성의 강화와, 알루미늄 합금의 은도금에서 불안정한 품질문제를 안연 침지공정으로 개선하였다. ...
  • 1. Plater 오류 (집중하지 않거나 확립된 절차에서 벗어남) 2. 전기연결 (불량 연결) 3. 도금용액 (욕조 화학 물질이 꺼져 있고 온도가 정확하지 않음) 4. 그라인더 오류 (...
  • 탈지는 원하지 않는 오염물이나 표면의 오염물질을 제거하는 공정으로 정의된다. 탈지 공정은 물리적인 방법과 화학적인 방법으로 구별된다. 적절하게 탈지후의 표면상태는 ...
  • 수산크롬 도금욕 ^ Oxalate Chrome Plating Bath 이 도금욕은 사전트욕에 비하여 6가크롬량이 적으며, 내마모성이 우수하여 [공업용크롬도금|공업용 크롬도금]에 많이 이용...
  • 전농도 1액형 시안화아연도금 광택제 고온욕에 작업기 가능하며, 고전류 작업도 가능 고농도욕에서 균일전착성이 우수한 작업