로그인

검색

검색글 니켈-인 97건
휴대폰 PWB용 고인 무전해 니켈 공정
High Phosphorous Electroless Nickel Process for Mobile Phone PWBs

등록 : 2023.12.09 ⋅ 19회 인용

출처 : SMEMA Council APEX, Designers Summit 04, 영어 9 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Masahiro Nozu1) Akira Kuzuhara2) Atsuko Hayashi3) Hiroshi Otake4) Shigeo Hashimoto5) Donald Gudeczauskas6)

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.12.10
중인 니켈층을 사용한 무전해 니켈 및 침지 금(ENIG) 도금 공정은 현재 휴대폰 인쇄회로 기판(PWB) 의 최종 마무리에 사용된다. 추세에 따르면 휴대폰의 전세계 시장 성장에 따라 ENIG 마감 기판의 부식 환경에 더 높은 저항 특성의 요구가 증가하였다. 내식성을 높이기 위한 평가방법으로 다양한 방법이 소개되고 ...
  • 황산염욕에서 Zn-Co-Cr 전착 합금의 작업 조건과 전착된 합금의내식성을 연구하였다. 연속 전류 전착에서 황산욕에서 얻은 아연-코발트 합금에 대한 코발트 농도의 영향을 ...
  • 탈 스케일법의 염막법과 그 기초적 검토를 한 결과 보고서
  • 부식억제제는 상당한 효과로 인해 생산 공정에서 널리 사용된다. 이 장에서는 산성 용액, 중성에 가까운 용액, 알칼리 용액 및 오일 및 가스 시스템에서 전형적인 부식 억제...
  • 무전해금도금조 및 이를 사용한 도금법이 제공된다. 무전해금 Au 도금조는 수용성금 화합물, 도금조에서 금이온을 안정화시키지만 도금조중에 니켈, 코발트 또는 팔라듐...
  • 니켈실 · Nickel Seal 영국 "캔닝" 사의 포러스형 [니켈도금]의 상표명으로, 도금액중에 실리카ㆍ알루미나ㆍ카오린ㆍ황산바륨 등의 비전도성 입자를 포함한 현탁액에 2.5 ㎛...