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인쇄회로기판용 홀 금속화 기술 연구 진행
Research progress in hole metallization technology for printed circuit boards

등록 2023.12.24 ⋅ 85회 인용

출처 Plating and Finishing, 45권 12호 2023년, 중국어 6 쪽

분류 연구

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印制线路板的孔金属化技术的研究进展

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.17
인쇄회로 기판의 금속화 공정은 무전해 구리도금 공정을 통해 이루어지고 있으나 이 처리 공정은 복잡하고 번거로우며 활성화를 위해 귀금속을 사용하고, 환원제로 발암성 포름알데히드를 사용한다. 인쇄회로 기판의 업그레이드 및 개발에 있어서 표면 처리에 대한 높은 요구 사항을 더 이상 충족시킬 수 없는 단점...
  • 약산성 니켈 합금 금도금 시스템 RONOVEL™ N 공정은 완전히 새로운 기술의 산성 경질 금도금욕 이다. 증가된 도금 속도 외에도 다공성, 개선된 내마모성 및 침투력으로 연속...
  • 산성 황산구리 도금욕에서 광택제 첨가제의 유효 농도를 간접적으로 측정하는 전기화학적 방법이 평가되었다. 절차는 작업전극에서 구리 도금을 제거하는데 필요한 전하를 ...
  • 구리-주석-아연 Cu-Sn-Zn과 같은 활성-비활성 합금 시스템은 높은 이론적 용량과 상대적으로 우수한 순환성으로 인해 상용 리튬 이온 배터리에서 흑연 음극을 대체하기 위해...
  • 납프리 주석합금도금 재료를 개발하였다. 예비 스크린 시험은 여러 합금 후보에 몇가지 단점이 있음을 보여주었다. 주석-은 Sn-Ag 도금은 비용이 높았고, 주석-비스무스...
  • 안정한 카복실레이트의 예로는 아세트산, 프로피온산, 클로로 아세트산, 트리클로로 아세트산, 석신산, 설포아세트산, 벤조산, 피콜린산 및 니코틴산이 있다. 광택 크롬도금...