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칩 제조에 있어서 구리 전기도금 첨가제의 연구 진행
Research Progress of the Copper Electroplating Additives in Chip Manufacturing

등록 2023.12.24 ⋅ 50회 인용

출처 44권 2호 2022년, Plating and Finishing, 중국어 6 쪽

분류 연구

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기타

芯片电镀铜添加剂的研究进展

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.03.05
첨가제는 핀홀이 없는 충전을 달성하기 위한 칩 구리 전기도금 공정에서 없어서는 안 될 부분이다. 전기도금 용액의 구성은 복잡하며 전기도금 공정에서 촉진제, 억제제, 레벨러와 같은 다양한 첨가제의 시너지 메커니즘을 더욱 명확히 할 필요가 있다. 칩용 구리 전기도금 첨가제의 반응 메커니즘을 밝히기 위해 국...
  • 크로메이트 생성 반응 ^ Chromate Reaction [아연도금]된 제품을 [크롬산] 용액에 침지함에 따라, 쉽게 크로메이트 피막을 만들수 있다. 크로메이트 용액중에 아연피막이 용...
  • 구리도금욕 Copper Electroplating Bath 구리도금액은 용도와 목적 또는 도금액의 조성에 따라 아래와 같이 나누어질 수 있다. [구리도금] 황산구리도금욕 (장식/PCB/동박) ...
  • 화학도금 용액 및 공정, 특히 안정화된 화학도금용액 및 이러한 용액을 사용한 화학도금 공정에 관한 것이다.
  • 전자 스루홀용 황산구리 도금의 원리와 전반적인 설명
  • 카드뮴 Cd 는 우수한 내식성과 엔지니어링 특성으로 인해 부식방지 도금으로 광범위하게 사용되었다. 그러나 독성 때문에 대체 도금이 필요했다. 아연-니켈 Zn-Ni 합금도금...