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헐셀시험에 있어서 전위및 전류분포의 측정
Measurement of Potential and current distriburions in HUll Cell test

등록 : 2010.01.07 ⋅ 47회 인용

출처 : 금속표면기술, 30권 1호 1979년, 일어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.15
헐셀판에 프린트 회로용 기판을 이용하여 간단히 전류분포를 측정는 방법의 실험
  • 전기도금법에 의한 수소흡장 합금분말 입자상에 Ni-PTFE 복합피막 형성에 성공하여, 수소까스 흡장방출 특성 및 내식성에 관하여 검토한 보고서
  • 알루미늄 또는 알루미늄 카본블랙 함유 에나멜 페이스트를 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 (ABS) 플라스틱에 코팅하여 후속 구리도금을위한 알루미늄 시드 표면을 만들어, ...
  • 산성아연 도금액 관리 ^ Acid Zinc Plating Bath Control 도금액의 관리|1|에 가장 중요한 항목은 금속 농도와 염화물 농도의 관리다. 금속아연의 관리 고전류부에 과잉의 ...
  • 알루미늄 (Al)에 대해서는 "가볍고 예뻐"라는 좋은 이미지가 정착하고있는 것은 기쁠따름이다. 당사도 Al의 부식 방식에 관한 일반적인 상담이 종종 제기되는 것도 사실이다...
  • 아연계 표면처리강판의 중요한 수요분야인 자동차 가전 건축산업의 최근 개발된 신재료 신기술을 설명