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전착아연의 크롬 프리 패시베이션막의 형성 공정 연구
Investigation of Formation Process of the Chrome-free Passivation Film of Electrodeposited Zinc

등록 2025.05.01 ⋅ 26회 인용

출처 Aeronautics, 20권 2007년, 영어 5 쪽

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자료요약
카테고리 : 크로메이트 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.05.01
티타늄조에서 전착된 아연의 무크롬 부동태화 처리를 크롬산염 부동태화 처리로 대체하는 타당성을 조사하였다. 크롬이 없는 부동태화 필름의 형성 메커니즘을 추가로 분석하였다. 필름 형성 과정에서 샘플 표면의 전극 전위를 기록하였다. 양극 아연 용해와 음극 수소 이온 환원 공정으로 인한 국소 pH 값 증가로 인해 ...
  • 바렐용 징케이트 아연 광택제로, 균일전착성이 우수하며, 도금속도가 빠르다. 내부응력이 적고, 밀착성이 우수하며 2차 가공성도 우수하다. 불순물에 둔감하며 액관리가 쉽...
  • 종래 액상의 산성활성제를 보다안전한 고체를 사용한 불화물로 금속피막을 쉽게 활성화하여 밀착불랴을 방지할수 있다.
  • 절연기판 및 도금 관통구멍의 벽에 구리를 무전해 도금하여 완전 첨가 또는 부분 첨가 인쇄배선 기판을 제조하는 개선된 방법으로, 구리도금은 열 스트레스 또는 열 순환으...
  • 전해질의 입자농도 (0.05~0.20 vol %) 및 전류밀도 (1200~2400 A/m2) 와 관련하여 전염화물 니켈 전기주조욕에서 탄화텅스텐 (WC) 입자 (평균 크기 2 μm) 의 전기도금을 조...
  • “수도권대기환경개선에관한특별법” 시행에 따라 오염물질을 다량으로 배출할 것으로 예상되는 연소시설의 적정관리 및 "악취방지법" 시행에 따라 강화되는 악추배출업소의 ...