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전자 부품용 붕소 프리 니켈 도금의 개발
Development of boron free nickel electroplating for electronic components

등록 2025.05.19 ⋅ 8회 인용

출처 산업기술연구보고서, 10호 2015년, 일본어 4 쪽

분류 연구

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저자

기타

電子部品用ホウ素フリーニッケルめっきの開発
東京都立産業技術研究センター研究報告,第10号,2015年

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.05.19
구연산 니켈 도금의 공업적 용도 확대를 도모하고, 그 우수한 피막 물성을 살려 첨가제 없이 전자품용 하지 도금에 적용하는 것을 목적으로 하여 조성 및 피막 물성 등에 대해 검토했다.
  • 반도체에 있어서 테크노로지 노드 90nm 세대의 동배선도금장치가 요구되어 프로세스 성능으로, 미세화된 다마신구조의 봉공성, 면내균일성, 도금막 단차의 저감등이 있다.
  • 철강, 아연, 알루미늄의 일차 방지 및 도장하지처리기술의 한 방법으로 인산염 처리가 있다.이 방법은 1906 년에 T.W. Coslett 에 따라 공업적인 인산철피막 화성법이 ...
  • 산성 금도금 Acid Gold Plating 도금욕 성분 전체를 조성 하기전에 도금욕 성분(금염 및 광택제 제외)을 [활성탄처리]하여 정화한다. 광택 산성 금도금은 옅은 노란색에서 ...
  • 산 또는 중성용액을 이용하여 유리표면을 에칭/리칭하여, 반사방지막을 만들어 레이져시스템의 광학소자로 이용하는 방법에 관하 설명
  • Cu-Ni-Si 계 합금의 내열 박리성을 개선하고자, 각종 첨가원소의 영향 및 시료처리의 영향을 검토