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은을 도금 시드로 사용하는 새로운 구리 배선 형성 기술
Novel Copper Wiring Fabrication Technology Using Silver as a Plating Seed

등록 2025.06.04 ⋅ 12회 인용

출처 표면기술, 75권 11호 2024년, 영어 7 쪽

분류 연구

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저자

기타

銀をめっきシードとして用いる新しい銅配線形成技術

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.06.04
은시드 도금법에서는 독자적으로 개발한 은 나노 입자를 이용하여 나노 입자의 박막 (은 시드층) 을 도금 시드층으로서 사용한다. 활면 상에 충분한 밀착력을 가지는 거의 비 프로파일의 구리 배선을 형성할 수 있다. 은 시드 도금법을 이용한 구리배선 형성의 특징, 이점에 대해 설명하였다.

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