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이경 비아 사이의 황산 구리 도금막 두께 차이에 미치는 원인과 대책의 고찰
Consideration of Causes and Countermeasures for Difference a in Acid Copper Plating Thickness Between Different Diameter Vias

등록 2025.06.04 ⋅ 10회 인용

출처 표면기술, 75권 11호 2024년, 일본어 4 쪽

분류 연구

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異径ビア間の硫酸銅めっき膜厚差に与える原因と対策の考察

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.06.04
IC 칩, 인터포저의 구리배선이나 전극패드를 형성하는 수법으로 황산구리 전기 도금법이 사용되고 있다. 그러나 도금 기술에 대한 요구(문제점)를 해설한 자료는 거의 없는 것이 현재이다. 다른 문제가 발생하는 사례를 소개함과 동시에 그 원인과 황산구리 전기 도금욕의 특성의 대책을 소개한다.
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  • 웨트프로세스의 특징과 소재표면 및 계면에서의 도금피막 밀착성에 관하여 설명하고, 공업적인 관점에서, 도금소재별 또는 도금피막별로 밀착성의 문제해결등을 설명
  • 수산화칼슘 · Calcium Hydroxide 소석회 〔화학식 Ca(OH)2〕 를 말하며, 생석회에 물을 가하여 (소화) 생성되는 백색 분말이다. 염기성이 강한데, 물에 조금밖에 녹지 않는...
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  • 실험실의 현대 유기합성에서 Drs. Jie Jack Li, Chris Limberakis 및 Derek Pflum 은 합성 유기 화학의 태피스트리에 침투하는 일반적인 변형 및 프로토콜에 대한 절차를 제...