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LSI 구리배선과 습식 프로세스
Wet processes for making Cu interconnection in LSI
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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.12.24
구리배선 형성에 습식방법이 중요한 역할과 방법에 관하여 설명
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카드뮴-티타늄 합금도금 ^ Cadmium Titanium Alloy Plating 카드뮴 도금에서 발생되는 [수소취성]을 방지하기 위하여 소량의 티타늄 금속이온을 첨가한 합금도금으로, 항공...
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ABS 도금 관리 ^ Control of ABS Plating ABS 수지중 부타디엔을 크롬산에 의하여 산화 용해하여 앵커를 만들고, 2중 결합된 부타디엔을 분해하여 [카르본기] 등의 극성기를...
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산성구리 황산도금액에서 광택 첨가제의 유효농도를 간접적으로 측정하는 전기화학적 방법을 평가하였다. 모든 절차에서는 질량이동, 시간, 온도 및 전위를 신중하게 제어한...
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구리회전 원판전극의 음극전위와 전위차로 산성구리 도금에서 Chrono potentiometry 방법하에 회전스피드와 첨가제 농도를 달리하여 측정하였고, 전위차와 필링 (충진) 기능...
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극박 금 Au 도금 스테인리스재의 IC용 리드프레임 및 커넥터 접점 재료로서의 제조공정 품질 특성에 관한 설명