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LSI 구리배선과 습식 프로세스
Wet processes for making Cu interconnection in LSI

등록 2010.02.18 ⋅ 37회 인용

출처 표면기술, 53권 6호 2002년, 일어 6 쪽

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.12.24
구리배선 형성에 습식방법이 중요한 역할과 방법에 관하여 설명
  • 반도체장치는 기본적으로 순도가 매우 높은 게르마늄 칩의 실리콘으로 구성되며, 불순물 원소를 정밀하게 관리하고 추가하여 n형 또는 p형 반도체로 변환한다.
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  • 전주의 원리, 전주장치, 제품에 관하여 설명
  • Hyperzinc 시리즈의 특징 균일한 전착이 우수함 균일한 도금 외관 3가 크롬 화성 코팅과의 상용성이 좋음 철 양극 사용 가능 넓은 작동 범위 및 손쉬운 조 관리
  • 철-인 Fe-P 및 철-인-백금 Fe-P-Pt 합금은 적합한 산성도금액 및 도금조건을 사용하는 무전해도금 기술로 개발 되었다. 이 합금은 알칼리액에서 수소발생 반응을 위한 음극...