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검색글 Masahiko ITO 2건
고속흐름 도금법에 의한 단시간 Cu 관통 전극형성과 전극의 미세조직
na

등록 : 2012.11.07 ⋅ 24회 인용

출처 : 표면실장기술, 3호 2012년, 한글 7 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

Journal of Japan Institute of Electronics Packaging 번역

자료 :

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.05
8인치 웨이퍼에서 지름 10 ㎛, 70 ㎛ 깊이를 갖는 관통전극 실리콘 비아의 도금 시간을 90 분에서 60 분으로 단축하는 도금조건을 성립했다. 이와 더불어 도금조건의 기능에 따라 어닐링 처리한 후 미세구조 측정을 실시한 결과, 높은 펄스전류 밀도와 낮은 듀티사이클 펄스 조건에서 기존에 형성된 도금 피막의 입자 크기는...
  • 단속직류 (dc) 를 사용하여 소재금속. 이러한 펄스는 종종 초당 500~10,000 회의 속도로 사용된다. 그들은 돌기핵의 시작을 선호하고 단위 면적당 돌기수를 크게 증가시킨다...
  • 무전해 니켈도금액 분석 ^ Eletroless NIckel Plating Bath Analysis 니켈 도금액 5 ㎖ 를 정확히 취하고 물 50 ㎖ 를 가한다. Conc. NH4OH 10 ㎖ 가한다. MX 지시약을 소량...
  • 6가크롬 도금에서 전착된 기존의 크롬 매트릭스 피막은 장식 및 내마모에 널리 사용되었다. 6가크롬의 강한 독성과 발암성으로 인해 6가크롬에서 전착은 다른 방법으로 대체...
  • 원형 모럴셀 ^ Original Mohler Cell 모렐셀은 1997년경 "L. Lacourcelle" 이 개발한 실험조로 전류의 분포를 차단벽에 의존 하며, 하나의 스크린 슬롯을 따라 흐르는 전류...
  • 철계 기지금속에 도금된 크롬도금층을 적정한 조건으로 열처리하여 크롬도금층의 미세크랙으로 인하여 발생하는 내식성 저하를 극복하고 가 크롬도금층의 경도를 향상시...