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각종기재에 평활회로를 형성하기 위한 도금 프로세스
na
등록
:
2012.11.08
⋅ 21회 인용
출처
:
표면실장기술
, 3호 2011년, 한글 6 쪽
분류
:
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Mitsuhiro WATANABE
1)
Masaharu SUGIMOTO
2)
Hideo HONMA
3)
Hideo HO
4)
기타
:
Journal of Japan Institute of Electronics Packaging 번역
자료
:
분류 :
평활회로
⋅
폴리이미드
⋅
시클로오레핀
⋅
목록
도금인의 소식지 표면처리세계
Real Web Magazine
Innotive 6520 무전해니켈도금
자료요약
카테고리 :
인쇄회로
| 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.22
각종기재에 평활회로를 형성하기 위한 도금 프로세스로, UV 조사에 의한 소재의 표면개질위에 고밀착 평활회로를 형성하는 기술과 관련해 폴리이미드, 액정폴리머, 우수한 유전특성을 갖는 시클로올레핀 폴리머를 예로 들어 설명한다
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