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검색글 T. KANG 1건
페놀설폰산 산성 주석욕의 재사용에 있어서 산소와 주석의 침출 거동
Leaching behaviour of tin with oxygen in recycled phenolsulfonic acid tin plating solutions

등록 2012.11.10 ⋅ 45회 인용

출처 Applied Electrochemistry, 32권 2002년, 영어 4 쪽

분류 연구

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저자

S-K. KIM1) H-J. SOHN2) T. KANG3) T.S. KIM4) T.Y. KIM5)

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자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.12
소비된 주석을 보상하기 위해 재활용된 페놀설폰산 (PSA) 주석도금조에서 산소가 포함된 금속주석의 용해 특성은 30 ℃ 에서 전기화학적 방법과 침출실험을 사용하여 조사하였다. 전기화학적 분극 데이터는 용존산소의 확산이 다음과 같음을 나타낸다. 속도결정 단계는 침출실험에 의해 확인 하였다. PSA 주석도금 용액에...
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