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프탈산욕에서 텔루륨의 전착
ELECTRODEPOSITION OF TELLURIUM FROM PHTHALIC ACID BATH
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
제어된 pH 에서 프탈산 및 무기 물질의 존재하에 금속염 용액에서 텔루륨의 전착을 조사하였다. 전류 밀도는 0.28~11.34 mA cm -2 범위였다. 음극전류 효율 백분율은 상대적으로 낮았으며 수조에서 텔루리온 이온 농도가 증가함에 따라 증가했다. 도금된 금속의 순도는 99 % 보다 낮았다. X선 회절 분석은 도금이 육각형 구...
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음이온이 음극표면의 조건과 황산전해질 내 아연의 전착 역학에 미치는 영향을 조사하였다.
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용해성의 개선과 생분해성을 부여할 목적으로한 화합물을, 자연계에 넓게 존재하고 있는 환형 디설파이드 축합을 가진 리포산과 L-아민산의 축합반응에 의하여 합성하고, 그...
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도금제품의 신뢰성 평가에서 얼룩이 발생하였을 때 원인/해결방법으로 어떤 것들이 있을지 조언을 구해봅니다. -. 도금조건 : 시안화동도금 Strike + Ag min. 3㎛ -. 자재 :...