로그인

검색

검색글 표면기술 3428건
나노구조/기능 디바이스 형성을 위한 전해/무전해 프로세스
Electrochemical and electroless deposition processes for fabrication of Nano structures and devices

등록 2008.08.02 ⋅ 49회 인용

출처 표면기술, 53권 12호 2002년, 일어 5 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.17
나노구조 형성방법으로 전해/무전해 공정의 특징과 실제예를 소개하고, 고밀도 실장기술과 다마신 프로세스, MEMS 관련기술에 관하여 다양한 설명
  • 니켈 세라믹 복합 막을 위한 간단하고 선택적인 CMOS 호환 도금방법이 입증되었으며 무전해도금 기술을 사용하여 니켈-코디어라이트와 니켈-철(2,3) 산화물의 두가지 유형의...
  • 크롬도금과 그 작동 및 제어 조건에 대한 자세한 연구를 하였다. 지난 70년 동안 개발된 세 가지 주요 크롬산욕 유형은 초기 거동뿐만 아니라 궁극적인 구성에서도 동일한 ...
  • 산업용 세정제의 원리와 비누화 반응등의 기본요소 이론 설명
  • SCR
    사이리스터 (SCR) ㆍ Thyristor [정류기] (Thyristor Rectifire) 참고 wiki 사이리스터
  • 지시약 ㆍRegent 지시약은 물질의 산성도에 따라 자신의 색깔을 변화 시킴으로써, 그 물질이 어떤 특성 (산성ㆍ중성ㆍ염기성) 을 지니는가를 구분해주는 물질을 말하며, 침...