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무전해구리 도금의 균일 석출성
Uniformity of electroless copper deposition

등록 2008.08.03 ⋅ 83회 인용

출처 표면기술, 42권 7호 1991년, 일본어 4 페이지

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
균일 석출성을 향상할 목적으로, 각종의 물리적 및 화학적 인자에 관한 검토
  • 전기도금용액은 억제제로서 폴리에틸렌 글리콜을, 광택제로 메르캅토 2 -(mercapto) 화합물 및 다른 황화합물을, 레벨러로서 야누스 그린B (Janus Green B/[JGB]) ...
  • 은 (Ag) 및 은-텅스텐 [Ag (W)] 층을 Si 에 무전 해 도금한 결과를 제시 하였다. 이는 마이크로 전자공학 및 MEMS (Microelectromechanical System) 기술을 적용하기 위한것...
  • 루테늄 도금 ^ Ruthenium Plating 백금족 원소로 저 접촉저항ㆍ내경도ㆍ내식성ㆍ내마모성 등이 우수하나, [내부응력]이 크고 크랙의 발생이 쉬워 3 ㎛ 이상의 도금이 어렵다...
  • 부식 · corrosion 부식 (corrosion) 이란 금속이 어떠한 환경에서 화학적 반응에 의해 손상되는 현상으로 모든 금속과 합금은 특정 환경에서는 내식성이 있지만 또 다른 환...
  • Tinplate is an electroless immersion tin plating agent. It is used for coating copper surfaces, such as on printed circuit boards (PCBs), with a thin, uniform la...