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습식도금 3건
습식표면처리의 물리화학
Physical chemistry of Aqueous Processing on Material Surface
자료 :
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자료요약
카테고리 : 일반자료통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2015.01.22
습식표면처리를 열역학적 개요에 관하여 설명
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도금욕내에 니켈이온과 난용성 산화물로 a-아루미나 입자와의 반응을 전위차 측정법 및 유동전위법으로 검토하고, 니켈도금욕에서의 공석현상과 관련에 대한여 검토한 결과...
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카드뮴 농도 26 mg/L, 폐 사카로 마이세스 세 레비지의 첨가량 16.25 g/L, 온도 18 ℃, pH 6.0 및 침지시간 4 시간의 조건에서 30 분 흡착후 카드뮴 제거율이 88 % 이상임을 ...
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촉매금속으로서 고가인 귀금속류를 사용하지 않고, 외관이 좋으며 밀착성이 우수한 무전해도금 피막을 형성이 가능한 무전해도금용 촉매부여방법
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작업환경의 개선을 목적으로한 저발연성 프럭스액의 개발을 목적으로, 염화암모늄의 사용은 백연의 발생이 불가피하여, 염화암모늄을 사용하지않는 프럭스액의 개발과 특성...