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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...

고온 염화제2철 에칭 공정 평가

엣칭/부식 · CHEMCUT · · Randy Markle · 참조 58회

염화제2구리 에칭 재생을 위한 공정 지침은 염화 제2구리의 금속 보유 용량을 본질적으로 무한하게 만들었으며, 이는 다른 반대를 극복하는 이점이다. 오늘날 염화구리는 세계에서 생산되는 대부분의 내부층을 에칭하는데 사용됩니다. 지난 5년 동안 Chemcut에서 판매한 식각 시스템의 거의 절반이 염화...

엣칭/부식 · CHEMCUT · Oct 2002 · na · 참조 105회

유기염료의 부식억제 특성에 대한 우리의 관심을 이어 가면서 현재 논문은 알리자린 옐로우 (Alizarin yellow) GG (AYGG), C13H8N3 NaO6 (아조염료) 니트로닐아조 [5-(3 -nitrophenylazo)] 의 억제작용에 대하여 보고하였다. 하이드록시 벤조산소다 (2 -hydroxy benzoic acid sodium salt) 는 중량감소 ...

엣칭/부식 · Electrochem. Sci. · 3권 2008년 · E. E. Ebenso · H. Alemi 외 .. 참조 78회

염화나트륨 NaCl 용액에서 구리-아연 Cu-Zn 합금의 부식에 대한 과망간산염 및 인산염 음이온의 효과는 개방회로 전위, 전위역학 및 전기화학 임피던스 분광법(EIS) 기술을 사용하여 연구 하였다. 과망간산염 및 인산염 음이온의 농도를 증가 시키면 부식률이 감소하여 부식억제 효과를 나타낸다. Cu-Zn...

엣칭/부식 · Electrochem. Sci. · 2권 2007년 · S. A. M. Refaey · A. M. Abd El Malak 외 .. 참조 63회

염산 (HCl) 용액에서 연강의 부식에 대한 피리 독살 염산 (PXA) 및 피리독솔 염산염 (PXO)의 작용은 중량 손실 및 가스 측정 방법을 사용하여 연구하였다. 억제 효율은 억제제의 농도에 따라 증가하고 온도가 증가하면 감소한다. 효율성은 PXO > PXA 순서로 증가한다. 결과의 운동학적 처리는 1차역학을...

엣칭/부식 · Electrochem. Sci. · 2호 2007년 · A.O. James · N.C. Oforka 외 .. 참조 59회

2 M 염산 HCl 용액에서 70 Cu - 30 Zn 황동의 부식에 대한 일부 페닐히드라존 유도체의 억제효과를 중량감소 및 정전류 분극기술을 사용하여 조사하였다. 억제효율의 백분율은 억제제의 농도가 증가하고 온도가 감소함에 따라 증가하는 것으로 나타났다. 페닐히드라존 유도체에 요드칼륨 KI 를 첨가하면...

엣칭/부식 · Electrochem. Sci. · 4권 2009년 · M. Abdallah · M. Al- Agez 외 .. 참조 55회

1M 염산 HCl에서 Al의 부식에서 일부 계면활성제의 역할은 무게감소 및 정전류 분극기술을 사용하여 연구하였다. 억제가 금속표면에 있는 억제제 분자의 흡착을 통해 발생하는 것으로 나타났다. 억제 효율은 억제제 농도가 증가함에 따라 증가하고 온도가 증가함에 따라 감소하는 것으로 나타 났는데 이...

엣칭/부식 · Electrochem. Sci. · 3 (2008) 177 - 190 · G.Y. Elewady · I.A. El-Said 외 .. 참조 67회

2,6-디메틸 피리딘-2-아민과 그 유도체중 두가지는 전기화학적 임피던스 분광법 (EIS) 및 체중감량 기술을 사용하여 2 M HCl 용액에서 탄소강 (C- 강) 의 부식억제제를 조사하였다. 억제제의 효율은 억제제 농도가 증가함에 따라 증가한다. 얻은 결과는 사용된 피리미딘 유도체가 2 M HCl 에서 C- 강에 ...

엣칭/부식 · Electrochem Sci. · 3호 2008년 · G.Y. Elewady · 참조 45회

실온에서 상이한 농도의 메탄을 함유하는 염산 HCl 및 황산 H2SO4 중 연강에서 메톨 (N-메틸-p-아미노페놀설페이트) 의 억제거동을 화학 및 전기화학적 방법으로 조사 하였다. 메탄 농도가 증가함에 따라 부식 속도가 감소하고 억제효율 및 표면 피복률이 증가하는 것으로 관찰되었다.

엣칭/부식 · Electrochem. Sci. · 4권 2009년 · B.M. Praveen · T.V. Venkatesha 참조 44회

2 mol L-1 염산 용액에서 니켈의 부식에 대한 히드라존 유도체의 영향은 중량감소 및 정전류 분극기술을 사용하여 연구하였다. 일반적으로, 일정한 산 농도에서 억제효율은 억제제 농도가 증가함에 따라 증가하고 온도가 증가함에 따라 감소한다. 분극연구는 화합물이 혼합형 억제제로 작용함을 나타낸...

엣칭/부식 · Electrochem. Sci. · 2호 2007호 · A.S. Fouda · H. A. Mostafa 참조 65회