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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...

피라졸(PA) 의 부재 및 존재하에 염산 HCl 용액에서 철의 부식 및 부식억제는 전위역학 분극 및 전기 화학적 임피던스 분광법 (EIS) 에 의해 조사되었다. 임피던스 매개변수(Rct 및 Cdl)의 변화는 철 표면에 PA가 흡착 되었음을 나타냈다. PA 의 흡착은 Langmuir 흡착 등온선을 따르는 것으로 밝혀졌다....

엣칭/부식 · Arabian Journal of Chemistry · Jun 2010 · S.S. Abdel-Rehim · K.F. Khaled 외 .. 참조 51회

벤조티아졸 Benzotriazol / BTAH 은 40년 이상 구리 및 구리기반 합금의 부식억제제로 사용되어 왔다. 대기 부식방지 및 특히 용액조건에서 구리 보호를 위해 성공적으로 사용되었다.

엣칭/부식 · Queensland Univ. · Feb 2004 · Ngoc Huu Huynh · 참조 32회

스프레이방식을 이용한 웨트에칭의 전기화학측정셀을 개발하고, 금속의 자연전위를 측정하여, 용액과 전위의 관계를 검토 [ウェットエッチングの電気化学測定セルの開発]

엣칭/부식 · 표면기술 · 64권 5호 2013년 · yoshinao HOSHI · Aluiyoshi INUKAI 외 .. 참조 40회

과황산 식각액 적용 매개변수는 사용자들 사이에서 일반적으로 알고 있지만 현재로서는 얻을 수 없었다. 2최적의 과황산화물 비율을 찾기 위해 상당한 양의 자정 오일을 사용하였다. 최근 사용되는 기본적으로 동일한 조성인 16~19 %의 황산과 9~12 %의 과산화수소의 조성을 사용하였다.

엣칭/부식 · Metal Finishing · Feb 1988 · Max Stupar · 참조 53회

매크로에칭 Macroetching 은 적절하게 소재의 표면을 에칭하여 금속 시편의 대규모 구조, 즉 육안으로 보이는 구조를 드러내는 절차이다. 이 절차는 공정 금속공학에서 품질관리 도구이자 조사도구로 사용된다. 예를 들어, 빌렛과 슬래브의 분리 및 인클루전 스트링거, 단조의 흐름라인, 용접관통 깊이...

엣칭/부식 · ASM Handbook · G.F. Vander Voort, editor · Samuel M. Purdy · 참조 119회

스테인리스강의 산세공정에서 사용하는 질산으로 인한 환경문제를 해결하기 위하여 질산을 포함하지 않는 새로운 산세용액을 개발하고자 하였다. 산세용액의 반복 사용 시의 산세성능과 모재의 침식 정도를 기준으로 연구한 결과, 염산 1 %, 불산 및 과산화수소 각 2 % 의 조성을 갖는 용액이 기존의 질...

엣칭/부식 · 포항산업과학연구원 · 2005.1.17 · 전희동 · 최상교 참조 67회

황산구리용액에서 알루미늄 또는 아연을 에칭하는 것은 새로운 아이디어가 아닙니다. 최근 몇년 동안 전통적인 관행을 개선하고 더 안전한 대안을 도입하려는 움직임은 거의 알려지지 않은 에칭기술의 부활로 이어졌다.

엣칭/부식 · SPW · 2007 · na · 참조 90회

불산의 농도를 대폭 낮추기 위하여 불화암모늄 NH4F, 산성 불화암모늄 NH4HF2 등의 불소화합물 및 황산, 질산 등을 첨가한 혼산 용액을 제조하여 기존의 불산 베이스 에칭용액에 비교하여 에칭속도뿐만 아니라 에칭 후의 글라스 외관상태, 표면조도 등을 검토하였다. 그리고 대형글라스를 100 μm 이하로...

엣칭/부식 · 공업화학 · 20권 5호 2009년 · 김호태 · 강동구 외 .. 참조 59회

취약한 저유전율 절연막과 얇고 컨포멀한 라이너로 구성된 hp22nm 세대의 인테그레이션에서는 고정항 시드 위의 도금 성막과 엄격한 평탄화 요구를 과제로 들수 있다. 여기서는 고저항 루테늄 Ru 시드상 다이렉트도금, CMP 의 CoC 저감 목적의 평탄화 도금에서 저 스트레스 목적의 각종 평탄화 방법...

엣칭/부식 · 전자기술 · 6호 2010년 · 辻村 學 · 참조 41회

광택침지를 정의하고 구리 및 그 합금, 카드뮴도금 및 아연도금, 마그네슘 및 납에 대한 기존 광택침지 프로세스를 검토한다. 응용 프로그램이 나열하고 논의하였으며 양극광택과 유사한 광택침지 이론이 제안되었다.

엣칭/부식 · Before and After Plating · Oct 24, 1945 · Gustaf Soderberg · 참조 76회

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