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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

1990년 이후의 프린트기판 기술의 전개를 기본으로 하여, 도금을 주체로한 표면처리 기술의 전개에 관하여 설명

인쇄회로 · 표면기술 · 68권 9호 2017년 · Takeshi SAITO · Shin-ichi WAWABAYASHI 참조 8회

1950 년대 후반 미국 텍사스 인스트루먼트 사의 킬비와 페어차일드의 노이스에 의한 반도체 집적 회로의 발명하여 계산기를 시작으로, 비디오 게임기, 개인용 컴퓨터, 스마트 폰 및 전자 기기는 급속한 발전을 이루어왔다. 이러한 전자 기기는 정보 자체를 처리, 축적뿐만 아니라 통합된 정보와 인간을 ...

인쇄회로 · 표면기술 · 68권 9호 2017년 · Masahiro SAWA · 참조 18회

팔라듐/금 Au 도금피막의 와어어본딩 특성에 있어서 도금전처리의 영향에 주목하여, 도금피막의 석출형태에 영향을 주는 탈지처리와 소프트에칭 처리에 관하여 연구

인쇄회로 · 표면기술 · 68권 8호 2017년 · Tomihito KATO · Hjime TERASHIMA 외 .. 참조 22회

양극산화층의 특성 부식방지 내마모성 우수한 밀착력 전기절연 단열

경금속처리 · AHC · na · na · 참조 14회

TSV 충전에서의 다양한 변수들 중 기능성 박막과 도금공정에 의한 Cu 전해 도금을 자세히 소개

인쇄회로 · KWJS · 31권 3호 2013년 · 노명훈 · 이형 외 .. 참조 13회

이 보고서는 1979년 7월경부터 1980년 2월까지의 기간을 다루며 양극산화 및 침지도금 작업에 대한 논의뿐만 아니라 지난 3년 동안 얻은 결과 요약도 포함한다. 금속소재의 금속도금밀착에 대한 일반적인 이론이 개발되었으며 알루미늄의 에피택셜 아연에 대한 밀착에너지가 계산되었다.

경금속처리 · Aluminum Association · Nov 1980 · D S Lashmore · 참조 13회

전자제품의 점진적인 소형화로 인해 현대의 핸드헬드 장치 (예 : 스마트 폰) 는 하나의 장치에 점점 더많은 기능을 통합 하였다. 이러한 장치의 핵심 요소중 하나는 HDI PCB (고밀도 상호 연결 인쇄회로 기판) 로, 최소한의 공간 요구사항으로 높은 핀수 IC 패키지를 연결할 수 있다. PCB 레이어의 상호...

인쇄회로 · Max Schlotter · na · Michael Dietterle · 참조 9회

다른 조성의 코발트-크롬 합금 (최대 14 at% Cr)의 전착은 염화 코발트-N-(n -butyl)피리디늄 클로라이드의 펄스 전위 및 펄스 전류 방법에 의해 구리 음극에 전착되었다. (BPC) 110°C 에서 염화크롬(II)을 함유하는 용융염. 석출된 코발트-크롬 합금의 자기적 특성을 조사하였다. 높은 자기장에서 도금...

건식도금 · Chemical Technology · 8권 1호 2001년 · M R Ali · A Nishikata 외 .. 참조 12회

구리 페스트에 관하여 실용화가 가능한 페스트 설계와 특성에 관하여 보고

인쇄회로 · Harima Technology Report · 115권 봄 2013년 · Takayuki Ogawa · 참조 7회

황산구리도금에 사용되고 있는 도금액은, 황산구리의 기본욕에, 비아홀의 도금석출을 촉진하는 SPS 비스 설포프로필 설파이드 [bis (3-sulfopropyl) disulfide] 등의 촉진제, 비아홀외부의 도금석출을 억제하는 폴리에틸렌 글리콜 PEG (polyethylene glycol) 등의 억제제, 비아외부의 평골...

인쇄회로 · 오사카부립대학 · 2017년 7월 · na · 참조 46회