습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
|
인쇄 회로 기판에는 표면 마감 처리에 ENIG (무전해니켈/침지금) 도금은 널리 사용되는 표면처리로 납땜이 가능하며 알루미늄 와이어 결합 등의 납땜성과 내식성이 우수하여 마감재로 사용하기에 적합하며 금속 스위치의 접촉 표면에도 적합하다. 전통적으로, 금 염을 함유한 시안화물 (예: 시안화금 칼...
금은/합금
·
IMPACT · Oct 2016 · Willetta Lai ·
C. M. Chan
외 ..
참조 4회
|
구리-주석 (Cu-Sn)층은 잘 알려져 있으며 많은 장식 및 일부 기술응용 분야에서 니켈사용을 피하기 위해 자주 사용된다. 결과적으로 청동도금은 오랫동안 우리와 함께 해왔다. 현재 산업용 전기도금은 여전히 시안화물을 포함하는 용액에서 사용된다. 시안화물을 대체하려는 많은 시도가 있었지만 ...
구리/합금
·
NASF SURFACE TECHNOLOGY · 77권 11호 2013년 · Uwe Manz ·
Sascha Berger
외 ..
참조 23회
|
구리 소재에 대한 얇은 침지 은 Ag 피막의 나노 크기 특성
구리 소재와 은 Ag 전착물 사이의 계면 주위에서 미량의 크롬 Cr 및 나트륨 Na가 관찰될수 있다. 결과 또한 주위 온도보다 높은 온도에서 공기중에 더 오랜 시간 동안 방치하면 전착된 층에 일종의 노화효과를 유발하여 그 조성을 변화시킨다는 것을 알수 있다. 용액으로 제조된 샘플의 경우 부식생성물...
무전해도금기타
·
Web · na · Tamás I. Török ·
Attila Csik
외 ..
참조 24회
|
도금욕 성분 및 조성을 표준 헐셀 실험을 통해 최적화 하였고, 나타난 도금욕의 전류효율 및 평활성을 측정하였다. 편광 연구는 첨가제의 존재하에서 보다 음극방향으로 전위의 이동을 밝혀냈다. 아연도금강에 대한 내식성 시험은 아연도금에 의한 소재의 우수한 보호를 보여 주었다.
아연/합금
·
Chemical Technology · 10권 2008년 · Y. Arthoba Naik ·
T.V. Venkatesha
참조 21회
|
스위치 튜브는 핵무기에 사용되며 수년간 가스침투에 안전과 신뢰성이 요구된다. 이를 위해 25 μm 의 금 Au 도금막이 모든 금속의 도금에 요구된다. 금은 역사적으로 시안화금 도금이 사용되고 있다. 여기에서는 환경 친화적인 아황산금 도금욕으로 대체하고, 고저농도의 아황산욕을 시안화금 도금의 대...
응용도금
·
NTIS · JAN 1996 · David P. Norwood ·
F. Edward Martinez
참조 6회
|
구연산암모늄과 아황산소다가 표함된 용액에서 금 Au 의 전기도금
단순한 비시안화 금 Au 도금욕이 개발 되었다. 구연산 삼암모늄을 함유한 약산성 전해질인 염화금칼륨 KAuCl4 및 티오황산소다 Na2SO3가 안정한 금도금 액으로 활용되었다. 환경 친화적이며 준비와 제어가 용이하며 상온에서 전착이 가능 하다. 4 mA/cm2 의 전류밀도에서 약 10 μm/h 의 도금속도는 0.41...
금은/합금
·
Mater Electron · 20권 2009년 · A. He ·
Q. Liu
외 ..
참조 16회
|
아연도금된 샘플인 클래스 4 를 CrO3 40~60 g/L, H2SO4 0.8~1.0 ml/L 및 HNO3 3~4 ml/L 로 구성된 수조에 1 분 동안 담그면 노란색 피막이 발생하고 실온에서 염수분무시험에서 최적의 아연층 두께 17 μm 에서 적청이 발생하는 데는 204 시간이 걸렸다.
화성피막
·
Electrochemical · n/a · Inam-ul-Haque ·
Imtiaz Sadiq
외 ..
참조 25회
|
알루미늄및 알루미늄 합금의 도금방법과 산성 지도금 용액
pH 약 3.5 내지 약 6.5를 갖고 아연이온, 니켈이온 및/또는 코발트 철이온, 및 불화물이온을 포함하는 비시안화 수용액 산성 침지도금액을 제공한다.
경금속처리
·
국제특허 · 2005-010233 A2 · Nayan H. JOSHI ·
Maulik D. METHA
참조 23회
|