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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...
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복합 도금법에 의한 산화티타늄 TiO2 분산 니켈-몰리브덴 NiMo 합금 피막의 제작과 그 평가
비정질 Ni-Mo 합금 매트릭스에서 TiO2 입자의 복합 전착은 아나타제 또는 브루카이트 TiO2 입자가 현탁된 시트레이트 용액 (pH5.0) 을 사용하였다. 200g dm2 의 TiO2 를 함유하는 용액으로부터 백색의 균일한 복합 피막을 얻었다. Ni-Mo 합금 매트릭스의 조성은 TiO2 를 포함해도 변경되지 않은 상태로 ...
합금/복합
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표면기술 · 56권 11호 2005년 · Kuniaki MURASE ·
Masato ISHIDA
외 ..
참조 52회
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알루미늄 지각부에서의 양극 산화 피막 균열의 이론적 검토
알루미늄의 양극산화는 부식 및 내마모성을 향상시키기 위해 많은 알루미늄 제품에 널리 적용된다. 양극 산화막의 균열은 알루미늄 부품의 비교적 날카로운 모서리에서 발생하는 것으로 잘 알려져 있다. 모서리의 이러한 균열은 알루미늄 제품의 부식을 촉진한다. 균열의 형성을 방지하려면 일반적으로 ...
양극산화
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표면기술 · 55권 11호 2004년 · Akio IWASAKI ·
Ryokichi SHIMPO
외 ..
참조 42회
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무연 도금에 발생하는 위스커의 내부 구조 해석
무연 기술에 어려움을 겪고있는 것은 주석에서 흔히 볼 수 있는 위스커의 문제이다. 주석도금은 납땜 성이 우수하기 때문에 실제로 많은 전자 부품에 이용되고 있지만, RoHS 지령에 의해 납 프리가 요구되게 되어 주석 도금의 추가 이용 확대가 재검토 되었다. 무연 솔더 도금의 문제로서 ...
석납/합금
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표면기술 · 59권 4호 2008년 · Masataka OHGAKI ·
참조 61회
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황산욕으로부터의 아연-니켈 ZnNi-실리카 복합 도금과 실란 커플링 처리
황산욕에 의한 Zn-Ni-실리카 복합도금에 있어서, 시판의 실리카 콜로이드를 이용하여, 석출물의 표면 형태, 조성, 결정 구조, 실리카 공석 등에 미치는 도금 조건 및 피막의 내식성에 미치는 실리카의 영향에 대해 조사하였다. 또한 실란 커플 링 처리를 실시하여 크롬 프리 대체 크로메이트의 ...
합금/복합
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표면기술 · 55권 6호 2004년 · Makoto HINO ·
Minoru HIRAMATSU
외 ..
참조 90회
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온실 효과와 산성비와 같은 지구 환경 문제는 크린 에너지의 개발이 열쇠를 잡는다.반도체의 광전 효과에 의해 태양광을 직접 전력으로 변환하는 태양 전지는 바로 지구 환경 문제를 극복하는 기간 기술이라고 할 수 있다. 여기서는 현재 주류가되고있는 실리콘 태양 전지의 제조 방법, 구조 등에 대해 ...
일반자료통합
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표면기술 · 48권 12호 1997년 · Shoichi NAKANO ·
Souichi SAKAI
참조 34회
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철 Fe 기 액체 급냉 비정질 합금 박막상에 무전해 코발트-인 CoP 합금 도금막의 형성
액체 급냉법에 의해 제작한 Fe기반 비정질 합금 박막은 우수 연자성 특성을 나타낸다. 무전해 도금법에 의한 박막 형성은, 합금 조성이나 막 두께를 용이하게 제어할 수 있고, 소재의 종류를 선택하지 않는 성막법이다. 비정질 소재상에 무전해 도금법에 의해 자성 박막을 형성하는 2층재를 검토하였다....
무전해도금기타
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표면기술 · 47권 12호 1996년 · Kohichi MARUYAMA ·
Hiroo NUMATA
외 ..
참조 99회
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차아인산염을 환원제로 하는 무전해 팔라듐- 인 합금 도금 피막의 특성에 미치는 인 공석의 영향
차아인산염을 환원제로하는 에틸렌아민 착화욕으로부터 무전해 팔라듐 합금 도금에 대해서, 결정 구조, 내부 응력 및 흡장 수소량 등의 피막 특성에 미치는 인 공석의 영향을 검토하였다.
무전해도금기타
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표면기술 · 47권 12호 1996년 · Hidemi NAWAFUNE ·
Shozo MIZUMOTO
외 ..
참조 53회
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산성 수용액으로부터 구리-인듐-셀렌 CuInSe2의 전석과 광전기 화학 반응
용액으로부터의 전석법에 의해, CulnSe2, 화합물 반도체를 제조하였다. 또한, 전해 조건의 CulnSe2, 화학량 이론비, 구조 등 전석막 특성에 미치는 영향을 조사했다. 석출 된 CulnSe2의 광전기 화학적 반응을 측정 하였다.
구리/합금
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표면기술 · 47권 12호 1996년 · Ryoichi ICHINO ·
Junji MORI
외 ..
참조 21회
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분산 도금에 의한 전석 Ag-ZrB2 복합층의 ZrB2 함유량
ZrB2 함유 유량은 도금 조건, 특히 음극전류밀도나 도금욕 등 전착 속도 있음 - 음극 기판의 욕 중 위치 등에 의해 크게 변화하는 것으로부터, Ag 매트릭스를 이용한 경우의 ZrB, 함유량을 도금 조건을 변화 시켜 조사하였다.
합금/복합
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표면기술 · 47권 7호 1996년 · Shinsaku MEGURO ·
Buichi ISE
참조 48회
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분산 도금에 있어서 전석 구리-지르코디보라이드 CuZrB2 복합층 중의 ZrB2 함유량의 제어
분산질로서 지르코 디보라이드 ZrB2를 사용한 경우, 도금 조건, 특히 음극 전류 밀도와 도금욕의 착속에 의해 매트릭스 중으로의 ZrB2, 함유량이 대폭적인 변화를 나타내므로, 조건과 ZrB2, 함량의 관련성을 고려해야 한다. 실험에서 니켈 Ni 매트릭스보다 구리 Cu 매트릭스를 사용하는 경우 ZrB2를 쉽...
합금/복합
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표면기술 · 47권 6호 1996년 · Buichi ISE ·
Shinsaku MEGURO
참조 56회
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