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전처리에 의한 실리콘표면에 형성된 금속나노노드 길이와 무전해도금막의 밀착성
Effect of Metal Nanolod Length on Adhesion of ELectrolessly Plated Film on Silicon

등록 2014.12.08 ⋅ 24회 인용

출처 표면기술, 54권 12호 2013년, 일어 3 쪽

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前処理によりシリコン表面に形成された金属ナノロッドの長さと無電解めっき膜の密着性

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.04.14
전처리후단의 Si나노공 형태의 조건을 제어하는 것으로, 금속나노로드의 길이와 밀착성의 관계에 관하여 조사
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  • 현대의 상업용 전기도금조 (26 mM Pt (NH3)4 HPO4+ ~ 30 mM 인산나트륨 완충액을 포함하는 Pt 5Q 욕조, 368 K 에서 pH 10.6) 에서 구리에 백금을 도금하는 것을 전압전류법 ...
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