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상호회로의 제조에 있어서 구리의 전기 화학적 전착에 사용된 갈바노스태틱 시퀀스의 SERS 연구
An SERS study of the galvanostatic sequence employed for the electrochemical deposition of copper in the fablication of interconnects

등록 : 2009.06.01 ⋅ 95회 인용

출처 : Università del Salento, na, 영어 18 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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⋅ ⋅ ⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.07.29
폴리에틸렌 글리콜 (PEG), 비스 -(3 -설포 프로필) 이 있는 상태에서 산성 황산염 용액에서 구리의 전기적 전착 (ECD) 동안 표면 강화 라만분광법 (SERS) 에 의해 이황화 소다염 (SPS), 벤질-페닐 변형 폴리에틸렌 이민 (BPPEI) 및 염화물 이온이 수행된 첫 번째 연구를 보고 하였다. 전착중 기록된 SERS 스펙트럼의 분...

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