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반도체에의 표면처리 - 금 Au 납땜 범프
Plating on LSI wafer -Bump making process for GOld and SOlder

등록 : 2008.09.10 ⋅ 46회 인용

출처 : 표면기술, 44권 12호 1993년, 일본어 10 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.09
범프도금은 20~100 μm 의 두께로 두껍게하지 않기 때문에, 상당히 균등한 평활성이 필요하고, 깊은 저항성 홀내의 도금이 필요하여, 이 두가지 관점에서 기본적인 문제해결의 방향을 제시
  • 은 도금욕 · Silver Plating Bath [은도금] 스트라이크용 1~2 g/l 시안화은 0.8~1.6 g/l (금속은) 80~150 g/l 시안화칼륨 80~150 g/l (유리시안화칼륨) 작업온도 상온 음극...
  • 구리는 천연구리로 생산할수 있을만큼 비교적 안정된 금속으로 구리 특유의 붉은색을 띤다. 원석은 산화철과 황화구리의 혼합물을 만들기 위해 구워지는 칼코피 라이트이며,...
  • 가스 히터에 사용되는 구리 코일형태는 현재 약 400 ˚C의 용융 납(98%)-주석에 구리를 담그는 용융 기술을 사용하여 납-주석 합금으로 피복된다. 이 기술의 주요 단점은 납 ...
  • 청동 · Bronze 구리 (Cu) 와 주석 (Sn) 을 주성분으로 하는 합금으로 아연 (Zn) 이나 납 (Pb) 또는 철 (Fe) 을 다소 함유하는 경우도 있다. 청동은 황동보다 내식성이 강하...
  • 결정의 미세화에 따른 펄스파의 전류 off 시에 탈륨 Tl 의 흡착이 촉진가능성을 생각하여, Tl 공석량저감을 목적으로, 금 Au 도금시의 전류파형으로서 정전류 펄스파의 적용...