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아미노산 기반욕에서 3가크롬의 전착 특성과 최적화
Potimization and characterization of electrodeposition of trivalent chromium from amino acid-based baths

등록 2009.06.04 ⋅ 73회 인용

출처 Electrochemicals, NA, 영어 1 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
전통적으로 사용되는 6가크롬 전기도금 공정에 대한 덜 위험한 대안으로서 3가크롬 욕에서 크롬을 전착시키는 것은 지난 몇년동안 상당한 관심을 받았다. 카복실산 기반욕에서 3가크롬 전착기술이 발전하여 상용화되었다. 그러나 두꺼운 크롬 도금을 얻을수 없었기 때문에 금속표면처리 산업에서 널리 사용되지 못했다.
  • 접점의 마찰마모와 윤할처리에 관하여, 커넥타 접점으로서의 금 Au 도금의 마찰마모및 윤할제의 기초적인 부분에 관하여 설명하고, 항공전자의 금도금 후처리기술의 소개 및...
  • 중붕소산소다 ^ Sodium Tetraborohydrate 수소화붕소소다 CAS No 1690-66-2 NaBH4 = 37.83 g/㏖ 물과 접촉시 자연발화되는 가연성으로 인화성 가스를 발생한다. 도금공업에...
  • 다양한 응용분야를 위한 세라믹/금속 복합피막 처리방법에 대한 최적화를 논의하고 고체산화물 연료전지 (SOFC) 용 양극처리에 대한 예비작업을 기반으로 하였다. 복합피막...
  • 아직까지 무전해도금이 시도되지 않은 탈륨을 니켈-인 Ni-P 도금피막에 공석시켜 합금피막을 형성시키고자 하였으며, 도금조건에 관한 검토 결과와 석출피막의 결정구조에 ...
  • 프린트 배선판의 실장용 최종 표면처리로서, 부품실장 까지의 구리회로를 보호하여, 납땜접합성을 유지하기 위하여, 종래로부터 핫에어 납땜(HASL) 이 주로 사용되고 있다. ...