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차세대 고밀도실장 기술에 있어서 도금기술의 기대
Future Plating Technology for next Generation High Density Electronic Packaging

등록 : 2012.10.04 ⋅ 31회 인용

출처 : 표면기술, 62권 12호 2011년, 일어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.07
전자실장 기술에 있어서 시스템집적, 전기접척에 관한 2개의 기술항목을 연관하여, 도금기술을 이용한 새로운 고밀도 고성능 전자실장 기술을 예로 소개
  • 염화팔라듐 PdCl2 에 의한 고체실리콘 위에 활성화 처리를 기초로 하여 pattern 상에서 Dimethylamine boran (DMAB) 에 의한 선택적 무전해니켈도금에 대한 연구
  • 먼저 항상 친절한 답변 주셔서 실험에 많은 도움이 되고있습니다. 감사 드립니다. 최근 헐셀실험을 진행하면서, 헐셀의 극 저전류 부분에 도금문제가 발생하고 있습니다. 거...
  • 탈지 ㆍ Degreasing (Cleaning) 탈지는 금속 등의 가공 처리후 물체 표면에 도포되어 있는 각종 오염물ㆍ유기물질과 금속가루ㆍ연마재ㆍ먼지 등의 무기물질을 표면에서 제거...
  • 흑화 처리후에 환원제인 NaHB4 (붕수소산소다) 와 접촉함에 따라, 밀착력의 확보가 확립되는 흑화처리로, 위스커형 결정의 형성을 그대로 보존하고 내열성이 우수한 금속구...
  • 금의 공급원으로 시안화물 화합물을 포함하지 않고 일반식적으로 분해억제제를 포함하는 무전해금 Au 도금용액이 제공됩니다. 단, 용액에 아황산염과 분해의 금복합체가 포...