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차세대 고밀도실장 기술에 있어서 도금기술의 기대
Future Plating Technology for next Generation High Density Electronic Packaging

등록 : 2012.10.04 ⋅ 33회 인용

출처 : 표면기술, 62권 12호 2011년, 일어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.07
전자실장 기술에 있어서 시스템집적, 전기접척에 관한 2개의 기술항목을 연관하여, 도금기술을 이용한 새로운 고밀도 고성능 전자실장 기술을 예로 소개
  • 유니크린 154 는 철강 및 비철 금속소재용의 범용성 침적탈지제로서 액 수명이 길고 고성능이다. 일반적으로 나타나는 모든 오물 제거를 위하여, 유니크린 154는 침적식, 초...
  • 고 종횡비 구멍을 포함하는 공작물을 전기 도금하기 위해 공작물 및 하나 이상의 양극을 금속 도금 전해질과 접촉시키는 단계를 포함하는 방법이 개시된다.
  • 현재 연구에서 마그네슘합금 AZ31B 의 주석산염, 산화세륨, 크롬산염 및 갈바닉 흑색 양극산화 피막에 대한 비교연구가 수행되었다. 피막의 내식성은 분극화, 중성염수 분무...
  • 톨루엔설폰산 ^ p-Toluensulfonic Acid ^ PTSAㆍTSAㆍTosic Acid C7H8O3SH2O = 172.20 g/㏖ CAS 6192-53-5 (104-15-4 일수염) 무색 또는 백색 고체 67 g / 물 100 ㎖ Na 염...
  • 저는 도금 회사에 처음 입사하여 실험을 담당하는 사원입니다. 저희 회사는 썰파민산 니켈을 바탕으로 도금을 하고 있습니다. 최근 광택제 부분에서 불량이 많아서 1차, 2차...