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IN-Situ XRD 측정법에 의한 구리의 무전해석출 과정 검토
In situ X-ray diffraction study of electroless deposition of copper
등록
:
2008.07.31
⋅ 48회 인용
출처
:
표면기술
, 43권 5호 1992년, 일어 6 쪽
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Kyoichi WATANABE
1)
Naoki MATSUDA
2)
Tatsuo NISHINA
3)
Tomokazu MATSUE
4)
Isamu UCHIDA 5)
기타
:
자료
:
분류 :
디피리딜
⋅
포리에티렌그리콜
⋅
PEG
⋅
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도금인의 소식지 표면처리세계
자료요약
카테고리 :
구리/Cu
| 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.11.16
In situ XDR 측정용의 전용 셀을 새로히 고안하여, 구리의 무전해 석출 과정의 경시 변화를 박막 XRD로 측정하는 방법을 검토하고, 무전해 석출과정에 있어서 첨가제 효과에 관하여 결정학적 연구를 함
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