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매립형 임베디드 회로의 발전

등록 : 2012.11.07 ⋅ 23회 인용

출처 : 표면실장기술, 9호 2011년, 한글 3 쪽

분류 : 해설

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.03.18
매립형 임베디드 회로는 유전체 안에 회로를 삽입하는 것을 특징으로 하기 때문에 부드러운 유전체 표면을 구현하고 부드러운 전도성 표면을 제작하는 것이 필요하다. 또한 회로를 매립하기 위해서는 홈이나 트렌치가 필요한데 이를 위해 레이저 제거, 이송 적층, 임프린팅과 같은 기술이 사용된다. 여기서는 실제 개발된 임...
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  • 부식방지가 필요한 기판상의 전환코팅으로 특히 유용한 높은 보호, 3가크롬 피막 조성물에 관한 것이다. 전환피막 조성물은 크롬이온, 코발트이온, 질산염이온, 황산이온을 ...
  • 로당가리 ㆍ Rhodanide ^ potassium thiocyanate [티오시안산칼륨] 을 말한다. 참고 티오시안산