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매립형 임베디드 회로의 발전

등록 : 2012.11.07 ⋅ 28회 인용

출처 : 표면실장기술, 9호 2011년, 한글 3 쪽

분류 : 해설

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.03.18
매립형 임베디드 회로는 유전체 안에 회로를 삽입하는 것을 특징으로 하기 때문에 부드러운 유전체 표면을 구현하고 부드러운 전도성 표면을 제작하는 것이 필요하다. 또한 회로를 매립하기 위해서는 홈이나 트렌치가 필요한데 이를 위해 레이저 제거, 이송 적층, 임프린팅과 같은 기술이 사용된다. 여기서는 실제 개발된 임...
  • 종래사용되는 산화장치의 문제점을 개선하고, 폐수의 크로즈드화를 목적으로하여 개선된 장치의 효과등 프라스틱도금에 있어서 에칭액의 무수크롬산의 회수에 관하여 소개 [...
  • ETP
    ETP ^ Hexamethylene triquaternary ammonium chloride [HETM] 참고
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  • 무전해금도금 공정에 대한 문헌은 도금액조성과 관련된 전기화학적 환원 및 산화반응의 역학과 관련하여 검토하였다. 일부 수정된 공식은 자세히 논의하였고 무전해금 A...