로그인

검색

검색글 11114건
납계 세라믹스의 무전해 니켈 도금법
NA

등록 2008.08.16 ⋅ 58회 인용

출처 한국특허, 2002-0051382, 한글 1 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.02.20
납 Pb 계 세라믹스 무전해 니켈 Ni 도금 방법에 관한 것으로서, 이 방법은 세라믹스를 메타놀 CH3OH 또는 중탄산소다 NaHCO4 용액으로 탈지하는 단계, 상기 탈지된 세라믹스를 0.1~5.0 % 농도의 붕불산 HBF4 용액으로 에칭하는 단계, 상기 에칭된 세라믹스를 25~200 ㎖/L 의 염산 HCl 을 함유한 납-주석 Pd-Sn 용액으로 캐탈...
  • 반도체 칩의 소형화 대용량화 고속화에 따라 반도체 패키지의 박형화 다핀화 고집적화가 이루어지고 있다. 최근 위이퍼 레벨 CSP가 대부되고 있고 SiP, SoC 기술이 발전하는...
  • 크롬(VI) 전기도금은 높은 경도와 우수한 화학적 안정성으로 인해 금속 재료의 표면 엔지니어링 산업에서 중요한 역할을 한다. 그러나 크롬 Cr(VI)의 환원은 낮은 전류 효율...
  • 흑염처리 · Blackening 진한 [가성소다] 35~45 % 용액에 산화제 · 반응촉진제 또는 염료 등을 가하여, 140 ℃ 전후로 가열된 용액에 철강재를 넣으면 표면에 0.2~5 ㎛ 두께의...
  • 알루미늄의 인쇄방식에도 여러종류가 있고, 오프셋인쇄, 양극산화 인쇄, 스크린 인쇄, 에칭인쇄, 롤라그렌인쇄 등이 있으나, 여기서 대량생산되는 오프셋인쇄에 관하여 설명...
  • 크롬산 및 40~100 g/ 의 설포 아세트산으로 구성되고 실질적으로 카복실산, 불화물, 요오드화물, 브로마이드 및 셀레늄 이온이 없는 크롬 도금욕이 기술된다.