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검색글 박막형성 1건
반도체와 전기화학 2
Other electrochemical deposition techniques for semiconductor interconnection

등록 : 2008.08.20 ⋅ 30회 인용

출처 : 화학공학연구정보센타, na, 한글 5 페이지

분류 : 교본

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2012.12.04
전해도금외에 부가 공정용으로 사용되는 몇가지 전기화학적 박막 형성 방법인 무전해도금 및 치환도금에 관하여 설명
  • 도금공장 폐수중의 EDTA등 금속착화의 처리방법에 관하여 펜톤법을 이용한 산화분해법에 관하여 설명
  • 인듐의 전기화학적 거동과 전착을 메탄설포네이트 인듐(III) 과 디메틸설폭사이드(DMSO)로 구성된 용액으로부터 26 ℃ 와 160 ℃ 에서 실험하였다. 인듐(III) 메탄설포네이트...
  • 확산도금 · Diffusion plating 소재를 용융 금속중에 침지하여 부착하고, 응고하는 방법이며, 주로 철강재료, Fe 소재, Ni 내열 합금 소재 등, 피복 금속은 Al, Cr, Si 등이...
  • cBN
    cBN ㆍ Cubic Boron Nitride cBN 은 입방정 질화붕소를 말하며, 열에 대해 안정적이고 철에 대해 불활성이라 열처리된 특수강의 가공에 적합하다. [질화붕소] 참고 [복합도...
  • 두 종류의 산성 도금, 즉 황산욕에 도금된 구리 도금과 설파메이트욕에 도금된 니켈도금이 시안화 구리욕에 도금된 접지도금의 역할검사를 위해 시험하였다.