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반도체와 전기화학 1/2
Cu electrodeposition for semiconductor interconnection

등록 : 2014.03.20 ⋅ 21회 인용

출처 : CHERIC, , 한글 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.16
구리 배선 공정은 플라즈마 식각시 발생하는 부산물의 제거가 어려운 특성이 있어, 기존의 etch-back 공정대신 층간 절연막을 먼저 형성한 후 금속이 들어갈 자리를 사진 식각 공정 (photo-lithography)을 통해 형성 하고 후속 전해도금을 이용한 구리막의 채움으로 진행된다. 이러한 공정은 단순히 단차 피복율(step covera...
  • 광택 크로메이트 ^ Brightness Chromate 광택 크로메이트는 일명 [유니크롬|유니크로(Unichro/유니크롬)] 이라고도 하며 저농도의 시판 약품을 일반적으로 사용한다. 피막중...
  • 환원 ㆍ Reduction 음극 (도금하는 제품) 의 표면을, 도금액중의 금속이온 (금속이 도금액에 용해되는 형태) 이, 직류전류 (전자) 에 의하여 이온으로(전하를 잃는다) 금속...
  • 도금공장의 폐기물을 적게하는 방법, 폐기물의 유가물의 회수방법, 폐수처리와 폐기물의 법율에 관한 설명
  • 1964 년에 General Motors 에서 범퍼에 반광택니켈도금 20 μm, 니켈스트라이크도금 0.7~2.5 μm 광택니켈도금 5 μm 의 삼중니켈도금을 140 A/dm2 이상의 전...
  • 황산니켈 · Nickel Sulfate 니켈제련의 부산물이나, 산화니켈ㆍ탄산니켈 등을 황산으로 용해한후 증발 건조하면, 5~7 수염의 녹색 황산니켈의 침상 결정이 만들어지며, 육수...