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구리기둥 주석범프의 전해도금 형성과 특성
Formation and Properties of Electroplating Copper Pillar Tin Bump
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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.04
1)구리기둥의 산화방지 대안으로 주석측벽 산화방지 보호막 구조의 범프 제작, 2)제안된 구조의 도금기법을 비롯한 제작공정과 방법의 소개, 3)기존의 CPB-구리기둥 범프와 주석측벽보호막구조의 개선된 CPTB-구리기둥 주석범프의 전기적 특성에 대하여 비교, 분석
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무전해도금의 속도를 반응물 및 첨가제 농도와 이동 효과를 설명하는 모델을 개발하였다. 이 모델은 실험 데이터와 산화 및 환원 반응 모두에 대한 전기화학적 속도 방...
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무전해니켈 도금조 ^ Electroless Nickel Plating Bath 도금조 일반 산성욕 (중~고인) : 티타늄, SUS 316, 304 및 P/P 질산 박리 가능한 재질 가급적 매끄러운 연마 재질 67...
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도금현장에서 사용되는 전기화학적 방법으로는 CVS 방법이 넓게 이용되고 있으나, 여기서는 그와 다른 새로운 전기화학적 방법을 이용한 분석방법을 소개
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알칼리욕에서 광택제로 올바른 기능의 성분 조합을 찾는 문제는 용해도, 변색, 안정성 및 기타 요인으로 인해 복잡하며 현재까지 이러한 어려움은 부분적으로만 극복되었다....
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광택 와트니켈 도금액에서 알미늄이온의 제거 방법을 알고 싶습니다.