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무전해도금에 의한 미세홀의 버텀업
Botto-up filll of Cu on Ultra-fine holes by electroless plating

등록 : 2008.08.25 ⋅ 40회 인용

출처 : 표면기술, 58권 7호 2007년, 일본어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.20
미세홀의 비아필링을 위하여, 몇가지 첨가제의 효과를 비교검토하고, 전해구리도금에서 유기 유황계 첨가제를 선택하고, 무전해도금에서의 작용을 연구
  • 일반적으로 ABS는 크롬과 황산의 혼합 용액에서 에칭 처리를 실시한다. 이에 따라 ABS 의 부타디엔 성분을 선택 용해, 표면에 미세한 요철을 형성시키고, 거기에 금속 피막...
  • 반도체의 도금을 상세하게 조사하였으며 수년에 걸쳐 많은 생산자들에 의해 입증되었습니다. 이러한 노력은 주로 도금이 쉽게 확장될 수 있는 비교적 단순하고 저렴한 도금...
  • 마그네슘의 표면처리는 알루미늄에 비하여 어렵다. 이것은 실용금속중의 전기화학적으로 크게 귀한전위를 가지기 때문으로, 표면처리에 관하여 다양한 제안이 있으나, 마그...
  • 가격적으로 저렴하고, 작업환경상 문제가 없는 에르솔빅산을 환원로 하여, 전기화학적 분극측정에 따라, 금 Au 의 캐소드 환원반응, 환원제의 양극산화 반응에 관하여 검토
  • 안정적인 조건에서 23-27 m/h의 석출 속도를 제공하는 고속 무전해 니켈 도금 공정을 개발하였다. 황산니켈, 차아인산나트륨, 석신산, 착화제 CL1, 촉진제 AL-1, pH, 욕 온...