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계단식 전류 조정을 이용한 구리 전착에 의한 비아 충진
Via-filling by Copper Electroplating using Stepwise Current Control

등록 : 2014.06.05 ⋅ 10회 인용

출처 : Electrochemistry, 74권 3호 2006년, 영어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.12
첨가제의 선택과 그 농도를 제어하고 단계적 전류제어를 적절하게 선택하여 비아필링의 준비를 설명하였다. 또한, 구리도금에 대한 첨가제의 영향은 전기화학적 측정을 사용하여 연구하였다.
  • 무전해니켈 도금은 차아인산나트륨과 같은 환원제를 사용하여 제품표면에 니켈-인을 도금한다. 시간이 지남에 따라 도금액의 차아인산염은 아인산염으로 산화되며, 이온 크...
  • 다양한 전착 매개변수에 대한 4차 염화암모늄(QACl) 및 사카린의 존재 효과를 와트형 도금욕에서 스테인리스강 음극의 니켈 전착에 대해 조사하였다. 포함된 매개변수 음극 ...
  • 빌드업 방식 ^ BuildUp PCB 다층 PCB 형성에 있어 도체층과 절연층을 한층씩 형성해 도체층을 쌓아가는 식으로, 양면기판의 경우 차례로 적층해 층간마다 필요한 비아 (Via,...
  • 전자산업은 고 신뢰성 부품을 요구하는 반면 경제적 측면에서는 대량 생산 기술을 사용해야 한다. 이 두가지 (아마도 다른) 요소는 사용된 많은 재료의 특성이 완전히 확립...
  • 표면처리폐수는 고도처리로 재이용하면 절수와 한경보전에 유의하다. 재이용수는 샌산공정에 용수로 사용하면 경제적인 효과를 얻을수 있으므로, 표면처리폐수의 고도처리와...