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IT 정보통신용 반도체 부품의 전기도금 기술 동향
Electroplating technology trend of semiconductor parts for IT information and communication
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.09.08
인터포저 반도체 부품의 습식구리 전기도금을 30nm 이하의 파인패턴에 적용하여, 기종 스퍼터링을 대체하ㅕ 나노 반도체소자의 품질을 개선하였으며, 최근 IT용 반토체부품개발에 관하여 설명
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팔라듐 도금 · Palladium Plating 백금족 원소인 팔라듐은 도금액 중에서 활성이 매우 강하며, 욕 성분변화와 불순물에 민감하며, 수소흡장, 유기물 흡착성 등에 대한 기술...
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5 % HCl 에서 벤조트리아졸 (BTA) 에 의한 구리부식억제는 다양한 온도에서 중량감소 기법을 조사하였다. 표면 수렴의 최대 값은 35 ℃ 및 15 g/l 억제제 농도에서 BTA 에 대...
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화학도금법에 의한 Ni-P-SiC계 및 Ni-P-TiC계 복합도금을 합성하고, 복합도금의 경도에 있어서 내마모성에 대한 분산입자의 종류, 입도, 공석량의 효과, 열처리변화에 관하...
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플라스틱에 도금하는 방법으로는, 진공석출법과 전기 도금법이 대표적인 것이다. 진공 증착법이란, 도금해야 할 금속을 진공 중에서 가열 기화시켜, 피도금체 표면에 석출시...