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검색글 Katsuhiko TASHIRO 11건
무전해구리 도금의 석출형태 제어
Morphology Control of Electroless Copper Plating Deposit

등록 2014.11.17 ⋅ 23회 인용

출처 일렉트로닉스실장학회지, 8권 6호 2005년, 일어 9 쪽

분류 해설

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저자

기타

無電解銅めっきの析出形態制御

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.21
무전해구리 도금욕의 기본욕 조성과 첨가제 농도를 변화하여, 암반형 이외의 플레이트형 및 입형, 돌기형의 피막형대를 만들고, 무전해구리 도금욕 조성과 피막 형태에 관하여 검토
  • 금속표면은 금속이 합금의 일부이거나 원소상태인 촉매 비귀금속의 콜로이드로 소재표면을 도금하는 것으로 구성된 무전해 (화학) 도금 공정에 의해 비전도성 또는 유전체 ...
  • 리간드 ㆍ& Rigand [착화제]라고도 하며 중심 금속이온에 직접 결합된 분자나 이온을 말하며, 반드시 고립전자쌍을 1개 이상 가지고 있어야 한다. 착화합물에서 중심 금속 ...
  • 전자회로기판과 반도체 분야에서는 황산구리도금 기술을 위해 블라인드 비아필링 도금이나 스루홀도금 등의 실장 프로세스를 사용해 왔다. 최근에는 스루 실리...
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  • 전기도금과 관련하여 만족스러운 결과를 위해 규칙을 따르는 것이 중요합니다. 염분이나 용액에 물을 추가해야 하는 경우 증류수를 사용하는 것이 중요합니다. 증류수는 화...