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에칭기술의 최근의 영향
Trends in Etching Technology

등록 2014.11.17 ⋅ 34회 인용

출처 써킷테크노로지, 8권 7호 1993년, 일어 7 쪽

분류 해설

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エッチング技術の最近の動向

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.25
프린트 배선판 페턴형성에 넓게 이용되고 있는 습식에칭 기술에 관하여 개요를 설명하고, 최근의 파인회로 패턴형성에 관한 현황을 설명
  • 하나 이상의 금속 염, 전해질, 두개 이상의 광택제 화합물, 및 임의적으로 하나 이상의 평탄화제(LEVELER) 화합물과 습윤제를 포함
  • 이 애플리케이션 노트는 흡광도 검출 기능이 있는 Thermo Scientific™ Dionex™ IonPac™ NS1 컬럼을 사용하여 산성 구리도금욕에서 첨가제와 부산물을 측정하는 방법에 대해 ...
  • 사용량이 비교적 적고, 또한 공해발생률도 적은 이욕은 생략하고, 구리 및 아연도금 대해 설명하였다.
  • PVI
    Basotronic PVI ^ Quaternized Polyvinylimidazol 양이온성 폴리머로 [스루홀] 천공의 벽에 촉매가 균일하게 도포되도록 하여 균일한 무전해 구리층이 적용될 수 있도록 한...
  • 전체 전자 산업의 성장과 기본 인프라 확장을 지원하려는 요구는 전기 도금 공정의 개선을 이끌 것이다. 기존의 전기도금 공정을 개선하기 위해서는 전기도금 공정의 기본적...