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저농도 설파민산욕에서의 니켈도금 피막의 특성과 MEMS에의 응용
Properties of Electroplated Nickel Film from Low Concentration Sulfamate Baths and Its Application to MEMS

등록 2016.03.18 ⋅ 55회 인용

출처 일렉트로닉스실장학회지, 14권 1호 2011년, 일어 8 쪽

분류 연구

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기타

低濃度スルファミン酸浴からのニッケルめっき皮膜の特性とMEMSへの応用

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.02.17
도체장치 및 MEMS 용 센서는 니켈도금이 많이 이용되고 낮은 응력과 고경도 피막이 요구된다. 이에 적합한 니켈도금은 낮은 내부응력 높은 인장력을 갖는 설파민산니켈도금욕이다. 설파민산 니켈욕을 기본으로 하고, 전류밀도, 욕 pH, 온도, 금속염 농도를 변화시켜 도금피막 물성에 미치는 영향을 조사했다. 그...

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