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마이크로보이드 1건
전기도금 구리막에 있어서 마이크로 보이드의 성장거동과 조성에서 유기첨가제의 효과
Effect of Organic Additives on Formation and Growth Behavior of Micro-Void in Electroplating Copper Films
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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.24
Si-ULSI (초대형 통합) 장치에 사용되는 전기 도금된 구리 Cu 인터커넥트의 보이드 형성 메커니즘을 이해하기 위해 유기첨가제가 있거나 없는 도금조를 사용하여 전기도금 기술로 준비된 Cu 피막의 미세구조를 투과전자 현미경으로 조사했다 (TEM). 도금된 상태의 샘플에서, 유기첨가제와 함께 도금조에서 준비된 시드 Cu 층...
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티오시안산 은 Ag 도금욕 중의 은의 캐소드분극 특성을 정전위 전해법으로 측정하고, 도금막의 결정구조를 X선회절법으로 조사하여, 은의 석출기구에 있어서 요드화물 이온...
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티오설페이트 -설파이트 혼합 리간드 도금욕에 폴리에틸렌 이민 (PEI), 헥사메틸렌 테트라민 (HET) 및 벤조트리아졸 (BTA) 의 세가지 유기화합물을 추가하고 이러한 첨가제...
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자기기록 매체의 언더코트로서 알루미늄 소재상의 무전해 니켈-인 Ni-P 도금을 채용하는 경우의 도금욕 조성 및 액관리, P 함유량과 내열자기특성의 관계 및 피막의 특성에 ...
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초경합금, 바이스등의 CVD에 의한 세라믹 코팅과 절삭공구, 내마모공구의 응용과 현황에 대한 설명