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구리도금 방법
Copper plating method
자료 :
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- 분류 : 아세트아미드 ⋅ 벤조티아조릴티오프로필설폰산 ⋅ 멀캅토프로판설폰산 ⋅
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.16
도금액 중의 레벨러 성분관리를 하지 않고 안정적인 도금막의 특성을 얻을수 있도록 한다. 유기 아미드 및 아민화합물 군으로 부터 선택된 적어도 하나의 레벨러 물질을 도금대상 표면에 흡착하고 위 군에 속하는 어떤 물질도 포함하지 않는 구리도금액 중에서 도금하는 방법.
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알루미늄의 성질 성 질 고순도알루미늄(99.996%) 보통순도알루미늄(99.5%) 원자번호 원 자 량 격자정수(면심입방격자) 20℃ 13 26.97 α= 4.0413 - - α= 4.04 비 중 20℃ (g/㎤...
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전형적인 황산구리 기반 전기도금 화학물질은 억제첨가제로서의 유기폴리머 (예 : 폴리에틸렌글리콜 / PEG), 촉진제/광택제로서의 비스 (소디움 설포프로필) 디설파이드...
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황산용액에서 젤라틴과 티오요소를 첨가제로 사용하여 304 스테인리스강 위에 니켈-구리-인 Ni-Cu-P 층을 도금하였다. 도금된 층의 특성을 결정하기 위해 미세 경도측정기인...
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금속이온 농도, 전류인가 방식, 첨가제, 전류밀도 등이 니켈-철 도금층에 미치는 영향을 살펴보았고, 균일한 조성의 도금 두께와 내마모성을 위한 경도증가 방안에 대하여 ...
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무전해니켈도금 기술로 적용한 니켈-이트리아 안정화 지르코니아 (YSZ) 서멧 피막의 조성에 대한 계면활성제의 영향을 조사하였다. 음이온성 계면활성제인 [[도데실설폰...