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황산구리도금에 의한 구리박막의 형성
Electroplating of Cu thin films on Ni/Si substrate

등록 2008.09.18 ⋅ 86회 인용

출처 Web, na, 일본어 2 쪽

분류 해설

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저자

기타

硫酸銅メッキによる銅薄膜の形成

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.10.17
고가의 진공장치를 사용하지 않고 간단한 금속박막 형성방법을 확립할 목적으로 전기도금으로 구리박막을 형성한 결과, 황산구리도금법으로 광택이 있고 매끄러운 표면을 얻을 수있다. 두께 1.0 ㎛ 이하의 구리박막을 얻었다.
  • 수산화나트륨은 검화작용에 의해 기름을 비누화 하는 작용이 있어 이때의 기름이 비누화가 되게 되면 물에 씻겨지게 되어 제거된다. 유지가 활성 알칼리에 의해 분리되...
  • 실험실에서의 도금액 온도의 관리와 측정방법의 종류, 실시에에 관하여 소개하고, 주변기기를 함유한 도금의 실험장치도 소개
  • 은 카드뮴 Ag-Cd 합금은 경도, 반사율 및 변색 저항이 증가하도록 한다. 이들 합금의 전기도금된 피막물은 베어링 합금, 비 탱크 피막 및 전자 피막물질과 같은 응용분야에 ...
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  • CRODA 1000은 특히 20~30°C의 온도에서 탁월한 침투력을 지닌 고효율 광택 크롬 도금 첨가제입니다. CRODA 1000은 소재의 용해가 없어 구리 또는 구리 합금에 직접 광택 크...