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전자와 전기도금 응용에서 MSA 품질의 영향
The influence of the quality of methanesulphonic acid on electronic and electroplating applications

등록 : 2008.09.22 ⋅ 45회 인용

출처 : na, na, 영어 3 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

M. Eiermann1) S. Fassbender2) T. Heidenfelder3) W. Hesse4) H. Witteler Ludwigshafen5)

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자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.23
지난 몇년 동안 메탄설폰산을 기반으로한 전해질은 주석 및 주석합금 도금과 같은 공정에 점점 더 많이 채택되었다. 전자산업에 사용되는 납프리 납땜 합금의 개발로 인해 새로운 전해질에 대한 수요도 생겨났으며, 이들은 일반적으로 메탄설폰산을 기반으로 하였다. 이러한 전해질의 기술적 성능은 메탄설폰산의 품질에 크...
  • 전형적인 알루미늄 양극산화 기술을 설명하였으며, 각각의 양극산화 기술의 특성을 분석하였다. 전처리 공정, 양극산화 공정, 산화막의 실링처리란 3가지 측면에서 항공...
  • 부식방지가 필요한 기판상의 전환코팅으로 특히 유용한 높은 보호, 3가크롬 피막 조성물에 관한 것이다. 전환피막 조성물은 크롬이온, 코발트이온, 질산염이온, 황산이온을 ...
  • 납 Pb 계 세라믹스 무전해 니켈 Ni 도금 방법에 관한 것으로서, 이 방법은 세라믹스를 메타놀 CH3OH 또는 중탄산소다 NaHCO4 용액으로 탈지하는 단계, 상기 탈지된 세라믹스...
  • ABS 수지 (acrylonitrile -butadiene -styrene copoiymeric resin) 에 도금하는 방법은 해당분야에 알려져 있으며, 이는 에칭액으로서 크롬산과 황산의 60 % 수용액을 사용...
  • 1~4 μm/hr 의 석출속도와 3~7 % 의 인 석출물로 황산/시트레이트를 기반으로하는 도금액을 개발하였다. 석출속도에 대한 pH, 온도, 욕조성, 양이온, 음이온 및 기본첨가의 ...