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니켈 표면처리공정에서 전류밀도 효과분석
Effect of current density on nickel surface treatment process

등록 : 2009.07.09 ⋅ 33회 인용

출처 : 공업화학, 19권 2호 2008년, 한글 8 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.04.07
전류밀도에 따른 니켈 표면처리 특성을 파악하였다. 이를 위해 Hull-cell 실험을 실시하여 기본적인 니켈 표면처리공정의 특성 데이터를 산출한 후, pilot 공정을 구성하여 기존공정을 해석하고 대량생산 공정에 적용할 수 있는 최적조건을 찾고자 하였다. 산출된 공정조건을 전해조 내에서 소재의 위치나 걸개 형태 등을 수...
  • 티타늄 하지체의 도금 전처리 방법은, 백금 도금 전에 티타늄 하지체에 대한 전처리 방법으로서 플라즈마 기법을 이용하여 하지체 표면의 접착 유기물 및 산화막을 제거하는...
  • 입자표면의 아미노실란 카프링제 처리를 고려한 실란입자를 선택하여, 1 Mol 황산아연 ZnSO4 를 이용한 아연-시리카의 공석현상을 검토하고, 입자의 공석기구를 밝히는 실험
  • 전류파형과 핀홀발생의 관계를 조사하고, 직류정전압전원을 사용하여 휴지시간을 가진 전류파형을 만들어 반도체 스위치를 만든 효과를 검토
  • 다이나믹 콘트롤 셀 (HCHC) ^ Dynamic Control Cell HCHC 실험조는 "I. Kadija" 가 1991 년 경에 개발한 회전 실린더로 물질조달 상태가 일반적인 시험조 이다. a) Cathode,...
  • CVS분석법은 각종 첨가제 농도를 조작에 의한 차가 없이 분석가능하고, 일반적인 전기화학 측정장치를 사용하여 실시하는 것도 가능하나, 전용의 CVS 분석장치로 미국의 ECI...