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황산 프리 무전해구리 도금욕
SUlfate Free electroless copper plating baths

등록 2009.09.10 ⋅ 59회 인용

출처 미국특허, 1994-5306630, 영어 4 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.30
구리 이온, 포름 알데하이드, 포름산염 이온, 하이드록실 이온, 구리결합 이온, 예를 들어 아세테이트, 포름산염의 질산염과 같은 1가 음이온 및 아미노트리스의 알칼리 금속염과 같은 구리 킬란트 (메티엔 인산, 비스 카복시메틸 아스파르트산)를 포함하는 무황산염 무전해 구리, 에틸레 미디 네이트 (메틸렌 인산)는 용매 ...
  • 산성 아연도금 ^ Acid Zinc Plating 산성 아연도금은 [황산아연] 또는 [염화아연]과 같은 산성용액을 사용하는 전기도금 공정이다. 알칼리성 아연도금에 비해 비교적 전류효...
  • 구리를 seed layer로 증착하기 위하여 그 동안 문제되어왔던 표면의 자발적인 촉매화를 유발시키기 위하여 팔라듐을 catalytic activator로 사용하였다. 또한 팔라듐 입자을...
  • 크롬산 (무수크롬산) ^ 6-Valent Chromium 6가이온을 함유한 크롬으로 강한 산화제로 작용하며, [3가크롬]에 비하여 독성이 강해 유해물질로 지정되어 있다. [크롬산] 참고 ...
  • 구리유형 플레이트의 제조에 사용된 에칭용액의 재생 및 재사용에서 무기 매크로 구성요소 (삼가철 Fe3+, 이가철 Fe2+, 구리 Cu2+ 및 염소 Cl) 및 유기첨가제 (총 탄소의 상...
  • 알루미늄의 양극산화는 부식 및 내마모성을 향상시키기 위해 많은 알루미늄 제품에 널리 적용된다. 양극 산화막의 균열은 알루미늄 부품의 비교적 날카로운 모서리에서 발생...