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검색글 Kazunori KATO 4건
습식에칭의 기초와 응용
Wet etching -theory and application

등록 2008.09.03 ⋅ 68회 인용

출처 표면기술, 49권 10호 1998년, 일본어 7 페이지

분류 연구논문

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2012.11.08
인쇄제판 및 예술분야에서는 에로부터 습식에칭은 포토레지스터와 아트웍의 제판기술로 발전하여, 반도체산업과 전자 전기기계의 부품제조등에 없어서는 않될 중요기술로 발전하였다. 습식에칭 특히 포토에칭의 기초와 프로세스에 관하여 간단한 설명과 취근의 응용제품에 관하여 그 특징을 설명
  • 아연도금의 침지 크로메이트 처리는 광택, 유색, 흑색, 올리브색 등이 있으며, 이 크로메이트의 특성을 주로 하여 외관, 내식성, 처리액의 조성에 관한 설명
  • 아연 플레이크 · ZInc Flake 아연 플레이크 공정은 매우 높은 내 부식성과 내 화학성을 가진 전기가 필요 없는 피막처리 공정으로 전기도금에서 문제가 되는 수소취성의 위...
  • 산성 주석도금 스타노스타욕의 백탁을 방지 도금의 외관에 영향이 없다
  • 최근 개발된 고알칼리액을 이용한 볼탐메트릭법, 아노드 분극법, 전해발생-취소 부가법등 3가지 방법에 관하여 설명
  • RALU PLATE MPS ^ 3-mercapo-1-1-propanesulfonat CAS : 17636-10-1 C2H7NaO3S2 = 178.20 g/㏖ 합성약품 중간재 및 장식 및 전자부품도금 [황산구리도금|황산구리 도금]용 ...