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새로운 구리의 화학 에칭 처리제
A novel chemical etching reagent for copper
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분류
화학에칭 ⋅
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.20
온화한 조건하에서 구리에 대한 선택적으로 사용하는 새로운 화학에칭처리법의 개발
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무전해로 니켈-주석-인 NiSnP 도금을 개발하였다. 도금욕의 금속이온의 공급원으로 염화주석과 황산니켈, 환원제로 차아인산소다, 착화물로 구연산소다로 제조되었다. 이 전...
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AZ91D 마그네슘 합금에 직접 무전해 Ni-P 도금 처리를 적용하여 내식성과 내마모성을 향상시켰다. Ni-P 도금의 내식성은 전위 역학적 분극화 및 3.5 % NaCl 용액에 침지 실...
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금 Au 및 금 Au 합금도금의 액 및 도금방법, 도금액의 관리포인트 등에 관하여 설명
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수용액에 구리이온, 수산기 라디칼, 구리이온용 착화제, 포름알데하이드 및 포름알데하이드 첨가제를 포함하는 무전해 구리도금 용액, 여기서 하이드록실 라디칼에 대한 구...
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메탄설폰산 주석욕 ㆍ MSA 욕 ^ Methan Sulphonic acid bath [메탄설폰산] (MSA) 기반 주석 및 주석 합금 도금은 1980년대 초에 처음 개발되었으며 그 후 전기 도금 산업에...