로그인

검색

검색글 11135건
새로운 구리의 화학 에칭 처리제
A novel chemical etching reagent for copper

등록 2008.09.03 ⋅ 55회 인용

출처 금속표면기술, 38권 8호 1987년, 일본어 2 쪽

분류 해설

자료 있음(다운로드불가)

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.20
온화한 조건하에서 구리에 대한 선택적으로 사용하는 새로운 화학에칭처리법의 개발
  • 구리의 인터커넥터의 제조를 위한 전석에서, 무전해구리 석출은 새로운공정으로 연구 되었으며, 전기화학공적의 기계론적 이해를 위해 이들 시스템에서의 첨가제가 미치는 ...
  • 특수 소재상의 도금 방법 ^ Pretreatment to Plating Dificult Substrate 도금하기 어려운 소재의 도금 전처리 전도성 소재 [납전기도금|납 소재의 전기도금] [마그네슘전기...
  • 철의 부식 ㆍ iron corrosion 금속과 산의 반응 모든 산에는 공통적으로 수소 이온 (H+) 이 들어 있다. 수소 원자도 전자를 내놓기를 좋아하지만 대분의 금속보다 그 힘이 ...
  • 도금폐수에는 중금속, 오일 및 그리스가 포함되어 있으며 환경에 유해한 것으로 간주될수 있고 공중 보건에 영향을 미칠수 있는 수준의 부유고체가 포함되어 있다. 특히 중...
  • 은도금(두께 25 미크론)에 가끔 핏트가 발생합니다. 활성탄 처리나, 과산화수소처리, 과망간산처리는 하지 않았습니다. 원인은?