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서브 마이크로미터 연결 생산의 전기화학구리석출의 원리분석
Fundamental analysis of electrochemical copper deposition for fabrication of submicrometer interconnects

등록 : 2009.08.24 ⋅ 43회 인용

출처 : 와세다대학, Mar 2007, 영어 177 쪽

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카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.17
구리의 인터커넥터의 제조를 위한 전석에서, 무전해구리 석출은 새로운공정으로 연구 되었으며, 전기화학공적의 기계론적 이해를 위해 이들 시스템에서의 첨가제가 미치는 영향에 대하여 연구하였다. 본연구에서는 첨가제 Cl- PEG SPS JGB 등의 효과를 전기화학적 분극측정과 구리도금된 트렌치단면의 현미경관찰을 기반으로...

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