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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 Katsutoshi MATSUMOTO 1건
수용액에 의한 에칭거동과 그 제어 요인
Behavior and control factor of etching process by an aqueous solution -focusing on a Wet etching og copper

등록 2008.09.03 ⋅ 44회 인용

출처 표면기술, 59권 2호 2008년, 일본어 4 페이지

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.26
구리회로제작방법에 주로 사용하는 용액을 이용하여, 화학에칭을 중심으로 속도론적 고찰의 기초적 사항 제공