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에칭기술을 구사한 미세한 구조 만들기
Overview of etching process for fabricating microstructures

등록 : 2008.09.24 ⋅ 37회 인용

출처 : 표면기술, 59권 2호 2008년, 일본어 4 페이지

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.02.02
포토리소그라피와 조합한 에칭가공기술에 관한 설명
  • 인산염피막의 공업적 방법을 처음 발견한 사람은 T.W.Coslett 라고한다. 이후 Libeski가 인산석탄법과 인산철법을 제안 하였고, 1911년 R.G.Richard는 인산망간법을 제안하였다
  • 무전해은도금에서 원리와 특성을 소개하였다. 분말에서의 무전해은 Ag 도금에 영향을 미치는 요인을 분석하였고, 분말의 형태, 온도 pH 와 같은 전처리, 욕조성과 작업...
  • 한계전류 밀도를 DC 사용시 보다 펄스전류를 사용하면 상당히 증가할수 있으며, DC 도금에 비해 결정입 미세화, 밀착력 및 피복력 개선 수소취성 감소, 균일한 합금도금, 내...
  • 알루미늄(Al) 도금은, 하지 소재를 용융 Al 중에 침지하는 용융 도금법이나 감압 환경에서 행해지는 증착법 등이 있지만, 용융 도금법에서는, 600 ℃ 이상의 환경에 하지 재...
  • [鍍金液管理 2. 니켈鍍金(ii)] 니켈도금의 광택제에 관한 정보로, 광택제 자차에 대하여 접할 기회가 있엇으며, 성분 자체보다는 그 구성 개념이 광택제 사용에 있어 매...